美晶片新Substrate推X光光刻 指ASML、台
美一家新公司Substrate二投下震撼，宣布已出一晶片造工具，技能力可艾司摩（ASML）最先的光刻相抗衡。
美一家新公司Substrate二投下震撼，宣布已出一晶片造工具，技能力可艾司摩（ASML）最先的光刻相抗衡。
Substrate行James Proud在接受外媒表示，公司目是在美本土建立晶代工，台最尖端的AI晶片造，根本上大幅降低晶片造成本。
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Substrate然拿到美政府的金援，但已川普政府注。（／Substrate）[/caption]
SubstrateX光技媲美EUV光刻
光刻技是半造中最精密的工程，需要致的精度。迄今止，全球只有ASML能大模生的紫外光（EUV） ，以高量在矽晶上作案，每台ASML最先的光刻成本超四美元。
此Substrate宣已出一用X光的光刻技，能印出ASML先晶片造工具相的解析度。公司指出，已在美家室及自家施行展示，提供了高解析度影像作佐。然而，外媒目前尚未能消息的源。
Substrate近日已成功募一美元，估值超十美元，投者容包括中央情局（CIA）支持的非利In-Q-Tel、General Catalyst、Allen & Co以及Long Journey Ventures等。
承降低晶片造成本 迎合美家安全略
著美川普政府晶片造回流安政策，橡家室（Oak Ridge National Laboratory）高能X光束家Stephen Streiffer：「美是一，能透一家本土公司回市，是一家的重要工作，而且他知道自己在做什。」
SemiAnalysis分析Jeff Koch察，如果Substrate成功大幅降低晶片造成本，可能二次效，就像SpaceX致力降低火箭射成本一，激更多新用。
然而。足以台抗衡的先晶片造程，需要十美元的投入，即使是英特（Intel）和三星等大也以。目前一座晶的建成本往往超150美元。
Proud提到，Substrate 尚未直接得美政府的金，但美官其努力抱持厚趣。「我，我所做的事情必在商上立生存非常重要。」Proud，美商部特尼克在的官，本政府上任就一直及注件事。
料源：Reuters
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