工研院手日本新ZYRQ 全球首水浸式冷技

【警政 芬／新竹】日合作引AI代永高效算新典，著高效能算（HPC）及生成式AI快速展，料中心半晶片散的需求持攀升。工研院23日宣布日本新公司ZYRQ展策略合作，共同新世代「水浸式冷技」，以保、能高效能核心目，解AI晶片高功耗造成的散瓶。

此技不展在高效能色算域的新力，也方跨作新里程碑，引AI代永高效算新典。

工研院所副所秉祥表示，次全球首的「水浸式冷技」最大新，在於首度以水作冷介。相於界普遍使用的油或氟化物，水不毒、零污染，具零碳排的力及完全回收再利用的，展出高度的永性保值。透特殊散元件、流配方以及系化整合，可有效降低散所需之耗能，成功「用更少的，跑出更多算力」的目，大幅少料中心力冷的依，有效降低成本，於因AI代高速增的算需求，具有指性的突破意。

日本ZYRQ社井大表示，此技助力超系身全球「TOP500」排行榜。面生成式AI端用的高高能耗的挑，向以水核心的浸式冷系，透工研院的散元件流配方，合後，系能有效GPU表面度控制在30℃以下，支援每立方公尺200千瓦功率。此外，工研院及用金3D列印冷板技，有效降低材使用、重量，一步提升能源效率系建置性。

此技初步已能持99.9%定的晶片算效能，冷效率行液冷系提升逾倍，力使用效率（PUE）降至1.015，有冷系化，可大幅降低建置成本。未，技可足日本九州半中散技的缺口，在料中心的入建方面，展高用值。

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