傳中國逆向工程光刻機失敗，拆解後無法還原被迫求助 ASML

一直有中國 DUV 光刻機即將實現突破的流言，但這次的傳聞卻給國產化之路蒙上了一層陰影。

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2025年10月22日週三下午2:55

一直有中國 DUV 光刻機即將實現突破的流言，但最新的傳聞卻給國產化之路蒙上了一層陰影。美國地緣政治專家 Brandon Weichert 日前在 The National Interest 撰文稱，有中國團隊嘗試以逆向工程的方式複製 ASML 的舊款 DUV 光刻機。但其在拆解後無法還原，導致機器損壞，最終不得不向原廠求助。ASML 派員到現場檢查後，確認光刻機並非出現故障，而是因自行組裝失敗導致問題，但目前官方未就此事發表任何評論。

近期因 ASML 母國荷蘭引用緊急法臨時接管中資背景晶片廠 Nexperia 一事，中荷兩國已經有一點劍拔弩張。若中方擅自拆解光刻機屬實，可能會讓雙方的關係進一步緊張。不過業內人士指出，即使中國掌握了光刻機的硬體結構，若缺少 ASML 的軟體和光源技術支援，複製成功的可能性依然渺茫。更何況 ASML 的產品內都設有大量感應器，任何異常操作一旦被檢測到就會立即發出警告並通知廠方，極端情況下甚至可能引發自毀。

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