美新公司研新款曝光 欲挑ASML台

美新公司Substrate今天透露，公司已出一款晶片造工具，能媲美荷商艾司摩（ASML）造的最先曝光，目是挑ASML台大半巨。

路透社，Substrate行普德（James Proud）受表示，款工具是其雄心勃勃的第一步。Substrate的目是在美建立一家晶代工，能台生最先的人工智慧（AI）晶片。

普德希望藉由大幅降低造的支，削晶片生的成本。

美川普「把晶片造回美」列施政重之一，政府最近甚至入股美晶片大英特（Intel）。英特曾是晶片造、如今在先程技上落後台。

曝光技精度的要求高，ASML是全球唯一能造紫外光（EUV）微影的企。EUV曝光可在矽晶上快速刻精的路案。

Substrate，他已研出一使用X光的曝光技，在解析度上能ASML最先、每台造超4美元的曝光匹。路透社法立核技的真性。

研究SemiAnalysis分析科克（Jeff Koch）：「他信是必解的首要之，是其自有程的第一步。最能取代台ASML。」

一款能媲美台的先晶片造程需耗十美元，英特和三星（Samsung）等科技巨擘也一直是挑。目前一座晶成本超150美元，建造到都需要高度的能力。