淡江大薛宏中 首二材料 登期刊

淡江大物理系教授暨研研薛宏中、理院用科博士班三年恩，手成功大、家同步射研究中心、立大凝科研究中心成研，共同表突破性成果：「Epitaxial Ferroelectric Hexagonal Boron Nitride Grown on Graphene（在石墨烯上外延生的性六方氮化硼）」，刊登於尖期刊《Advanced Materials》（先材料），影因子27.4，5年影因子更高30.2。

薛宏中表示，研究首度在石墨烯上成功堆出「具有性的超薄六方氮化硼（h-BN）薄膜」，成功其能定地切性，研究成果示，h-BN/石墨烯界面的莫（Moire）超晶格致自化，而滑移可可逆化切，以此明其特性。「性」如同材料部具有一可自由切的「性」，可精控制流流向，尤其合用於、感器及低功耗算置。

成大教授忠霖用「助分子束磊晶技（MBE）」，在碳化矽晶片上先成高品晶石墨烯，再於其上逐精堆h-BN，藉由在介面自然形成的摩（Moiré Pattern），出具非且可透切堆的化。

中心研究澄懋表示，用「台光源」（Taiwan Light Source, TLS），行角解析光子能（ARPES）量，清楚到不同h-BN，石墨烯中的能化。薛宏中恩用第一原理基（密度泛函理DFT）激（GW多微修正），算其化制，及非堆的存在特徵。

突破性成果二材料的外延，可控子元件用新契，未可透堆式晶片的，推半及光的重大技革新。薛宏中表示，透此次成大、中心及大合作，不展淡江物理系在理研究的整合能力，也生得以尖端研究，深化野。