(中央社者朱台北6日)研院科中心在今年台半展中,展出自行研的ALD膜系及可助半先系新材的「原子沉合室」服平台。
2018半展5日到7日在南港展行,共超2000位,家研究院器科技研究中心也展,展出自行研的成果。
研院今天透新稿表示,了因界於半程尺寸微需求,以及米科技於多元科技用展,科中心深耕原子沉技(ALD)10多年,已提供界界多套自ALD系,展出自行研的「子微片子防膜系」,是一桌上型ALD膜系,小尺寸片探超薄奈米,具高密度表面保膜品,可用於生物片原子解析度三重片。
除客化ALD台外,科中心的「原子沉合室」服平台提供前物材料合成及、程技,助半先系新材。
研院指出,科中心近年全力投入半零件自,透在光及真空域深耕逾40年的技能量,半行合,上下游零件在地化展,提升台半的力。(:郭萍英)1070906