媒：三星2奈米良率40% 力拚朝50％

根媒消息指出，台和三星子都在今年下半生2奈米程，但三星良率只有40%，不及台的超60。（／美社／志影像）

[NOWnews今日新] 著AI潮，半程也不展，而根媒消息指出，台和三星子都在今年下半生2奈米程，但三星良率只有40%，不及台的超60%，示出三星在方面迎大挑。

前，界消息指出，台2奈米程定下半年在山和高雄生，是公司2奈米晶片首次用式（GAA）架，和目前的3奈米程相比，2奈米效能估提高10%-15%，能耗降低25%-30%，晶密度增加15%。

根界人士指出，台2奈米良率已突破60%，跨越定量的。根查Counterpoint Research，台2奈米的能利用率，在今年第4季前到100%，速度快之前所有程，下大客估包括果、高通、超微、英特、科等。

而另一家半大三星子也在今年下半始生2奈米，不根界人士指出良率40%。

三星是晶片生商中，率先用GAA架生3奈米的者，但初期段持苦於低良率。三星打算以先前用GAA的，提升2奈米的定出。三星未明2奈米品何，一般料是自家的Exynos 2600理器，用於2026年初布的Galaxy S26旗智慧。

不三星子良率低於台，也示出台在能力上超越三星子，也三星前景大挑。

不，另一家媒指出，三星系LSI晶代工2大事部正在加速提升Exynos 2600晶片的效能良率，款晶片用2奈米程，今年初款晶片良率30%，上月起已朝向50%，目前投片量良率均有所提升，但了量，三星需要良率提高到至少70%。

而外媒《wccftech》，由於台已於4月1日起接受2奈米，三星有到一些利厚的客，但三星需要加快步，否再次失良。

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